Περιγραφή
Ρητίνη μοντελαρίσματος χαμηλής διαστολής για την κατασκευή τηλεσκοπικών και/ή κωνικών στεφανών, συνδέσμων ακριβείας, υπερώιων ναρθήκων, γεφυρών τύπου Maryland και κολοβωμάτων για εμφυτεύματα.
Ρητίνη μοντελαρίσματος με ελάχιστη συστολή πολυμερισμού. Καταξιωμένη από χρόνια για το μεγάλο εύρος εφαρμογών κλινικά και εργαστηριακά. Εκτός από τις κύριες εφαρμογές, η μοναδική αυτή ρητίνη είναι ιδανική για πολλές καθημερινές εργασίες που απαιτούν ακρίβεια κατασκευής.
Ενδείξεις:
Εκτός από όλες τις συμβατικές ενδείξεις που εφαρμόζονται οι ρητίνες μοντελαρίσματος, η GC PATTERN RESIN LS αποδίδει καλύτερα αποτελέσματα στις ακόλουθες εφαρμογές:
- Ενδορριζική Αποτύπωση
- Εφαρμογή συνδέσμων ακριβείας
- Κωνικές και τηλεσκοπικές στεφάνες
- Εκτεταμένες προσθετικές εργασίες επί εμφυτευμάτων
- Τεχνικές μεταφοράς και αποτύπωσης εμφυτευμάτων
- Τεχνικές κατασκευής στεφανών και γεφυρών
- Ένθετα και επένθετα
- Μερικές οδοντοστοιχίες
- Τεχνικές Ηλεκτροφόρησης
- Ειδικά σχεδιασμένη για την τεχνική τοποθέτησης με πινέλο.
- Oικονομική λύση
Χαρακτηριστικά και πλεονεκτήματα:
Φυσικές ιδιότητες Χρόνος εργασίας (23ο C): 2’-3’ Χρόνος πολυμερισμού(23ο C): 4’ Αντοχή στην κάμψη (37ο C, μετά από 10’): 63MPa Συστολή πολυμερισμού μετά από 30’: 0,36% Συστολή πολυμερισμού μετά από 24 ώρες: 0,37% |
ΣΥΣΚΕΥΑΣΙΕΣ
Σκόνη 100 γρ., υγρό 105 ml, αξεσουάρ.
Μεμονωμένα: Σκόνη 100 γρ. και 1 κιλό, Υγρό 105 ml και 262 ml, 10 πινελάκια (Νο 4), 5 μπωλ ανάμιξης